MACOM II®
Magnetfeldkompensation für optimale Störfeldreduktion
Deutliche Reduktion magnetischer Störfelder in Elektronenstrahllithografie und Elektronenmikroskopie durch die aktive Magnetfeldkompensationsanlage MACOM II®.
Ihre Vorteile
Effektive Störfeldreduktion
Höchste Feldreduktionswirkung bei gleichzeitig extrem niedrigem Rauschniveau – für maximale Präzision in sensiblen Anwendungen
Maximale Effizienz im Betrieb
Individuell konfigurierbar für ein breites Anwendungsspektrum – von Forschung bis Industrie
Flexible Systemlösungen
Magnetfeldkompensation für optimale Störfeldreduktion
Typische Einsatzgebiete
Forschung
Elektronenmikroskopie – Verbesserung der Auflösung durch Reduktion magnetischer Störfelder.
Halbleiterindustrie
Elektronenstrahllithografie – Magnetfeldreduktion für exakte Strukturen im Nanometerbereich
Allgemeine Anwendungen
Anlagen aller Art – stabile Magnetfeldverhältnisse für störungsfreien Betrieb sensibler Systeme
Technische Daten
| Feldreduktionswirkung* | 0,1 Hz bis 1 kHz: 60 dB 1 kHz bis 5 kHz: 60 dB bis 40 dB 5 kHz bis 100 kHz: 40 dB bis 0 dB |
| Dynamikbereich | > 100 dB |
| Rauschen (0,1 Hz – 10 kHz)* | < 0,2 nTRMS |
| Langzeitstabilität | < 1 nTRMS |
| Maximales Störfeld | ca. 10 µT |
| Ausgangsstrom | 3 x 3 A |
| PC-Schnittstelle | RS 232, Ethernet |
| Versorgungsspannung | 115 V oder 230 V (einstellbar), 50 Hz oder 60 Hz |
| Bauform | 19´´ (4 HE) – Einschub- oder Tischgehäuse |
*Typische Werte am Ort der Sonde
Setzen Sie auf MACOM II® für stabile Magnetfelder und maximale Präzision in Forschung und Halbleitertechnologie!
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Gregor Feneberg+49 (89) 85602-258 +49 (89) 85602-111 gregor.feneberg@mbbm-ind.com Planegg/München